Ang 4EO-Bisphenol A Diacrylate ay isang mahusay at multifunctional na kemikal na hilaw na materyal, at ang natatanging ethylene oxide na istraktura ay nagbibigay sa produkto ng mahusay na pagkabasa at pagiging tugma. Sa larangan ng UV curable coatings, inks, adhesives, atbp., ito ay nagpapakita ng mahusay na pagganap, na maaaring epektibong mapabuti ang tigas, wear resistance, at adhesion ng mga produkto, na nagdadala ng makabuluhang mga benepisyo sa industriyal na produksyon. Kasabay nito, ang kumpanya ng QYNEXA ay mahigpit na sumusunod sa mga pamantayan sa produksyon ng kaligtasan upang matiyak ang kaligtasan at pagiging maaasahan ng mga produkto nito habang ginagamit, at nagbibigay sa mga user ng mataas na kalidad na hilaw na materyales ng kemikal.
Ang 4EO-Bisphenol A Diacrylate (BisA(4EO)DA) ay isang synthetic polymer compound na may serye ng mga natatanging katangian, kaya malawak itong ginagamit sa maraming larangan.
Una, dahil sa mababang pag-igting sa ibabaw nito, mahusay na solubility at chemical stability, pati na rin ang mahusay na solvent resistance, oil resistance, acid resistance, alkali resistance, heat resistance, at weather resistance, mahusay na gumaganap ang EBPAD sa mga coatings, inks, at adhesives. Bilang isang plasticizer, maaari itong makabuluhang mapabuti ang lambot, wear resistance, at weather resistance ng mga produktong ito, at sa gayon ay mapahusay ang kanilang pangkalahatang pagganap.
Bilang karagdagan, gumaganap din ng mahalagang papel ang EBPAD sa mga optical fiber, plastic film, at mga produktong elektroniko. Bilang isang enhancer, hindi lamang nito mapapalaki ang lakas at tibay ng mga produktong ito, ngunit mapahusay din ang kanilang pangkalahatang katatagan ng pagganap.
CAS 64401-02-1 antas ng pagganap 2 molekular na masa 776 lagkit cps/25℃ 1600 Kulay (APHA) 80 pag-igting sa ibabaw Dynes/cm, 20 ℃ 36.6 refractive index 1.514 Tg, ℃ 67 Mga highlight ng produkto Mababang amoy, hydrophobic backbone, alkali solubility. Mga iminungkahing aplikasyon Mga adhesive, coatings, photoresist, solder mask, photopolymer.